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Cible de pulvérisation du magnétron de molybdène

Molybdène magnetron pulvérisation cibl image

Le principe de fonctionnement de la cible de pulvérisation du magnétron de molybdène est l'électron sous l'action du champ électrique E, dans le processus de vol au collision du substrat avec les atomes d'argon pour ioniser et produire des ions Ar positifs et de nouveaux électrons. Les nouveaux électrons volent au substrat et les ions Ar sous l'action d'un champ électrique accéléré s'envolent vers la cible de la cathode avec un bombardement à haute énergie sur la surface cible, de sorte que pour faire la pulvérisation cible.

Dans les particules de pulvérisation, les atomes cibles neutres ou les molécules déposées sur le substrat pour former un film mince. D'autre part, les électrons secondaires générés sont soumis à des champs électriques et magnétiques, résultant en E (champ électrique) × B (champ magnétique) dérive, et sa trajectoire est similaire à la cycloïde de pulvérisation magnétron. Dans le cas du champ magnétique annulaire, les électrons effectueront un mouvement circulaire avec une forme approximativement cycloïde sur la surface cible et leur trajet de mouvement est non seulement très long mais également limité dans la région du plasma près de la surface cible. En outre, dans cette région ionise une grande quantité d'Ar pour bombarder la cible, en obtenant ainsi un taux de dépôt élevé. Avec l'augmentation du nombre de collisions, l'énergie des électrons secondaires est épuisée, et progressivement éloignée de la surface cible, et finalement déposée sur le substrat sous l'action du champ électrique E.

La cible de pulvérisation du magnétron de molybdène a une résistance élevée, une température élevée, une résistance à l'usure, une résistance à la corrosion et d'autres excellentes performances. La pureté est de 99,95% et la densité est de 10,2 g / cm 3 . Le point de fusion est 2610 ℃ et le point d'ébullition est 5560 ℃. Selon la forme, les types de cible de molybdène comprennent la cible de pulvérisation magnétron rectangulaire, la cible de pulvérisation de magnétron circulaire et la cible de pulvérisation de magnétron à tube cylindrique. Les cibles de pulvérisation sont principalement utilisées dans l'électronique et l'industrie de l'information, comme les circuits intégrés, le stockage d'informations, l'affichage à cristaux liquides, la mémoire laser, les dispositifs de contrôle électronique. En outre, il peut également être appliqué au domaine du revêtement de verre et peut également être utilisé dans des matériaux résistant à l'usure, la corrosion à haute température, haut de gamme de produits décoratifs et d'autres industries.

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