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圆钼靶
钼靶根据产品形状可以分为圆钼靶、方钼靶、钼板靶，根据应用领域可以分为X射钼靶、钼溅射靶材和镀膜靶材等。
物理性质如下所示：纯度:≥99.95%，密度：≥10.15克/立方厘米，熔点：2610℃ ，沸点：5560℃，形状：圆形。
性能:圆钼靶具有高强度，内部组织均匀，优良的抗高温蠕变性能。
用途：钼靶可在各类基材上形成薄膜，这种溅射膜广泛用作电子部件和电子产品，如目前广泛应用的TFT-LED（Thin Film Transitor-Liquid Crystal Displays，薄膜半导体管-液晶显示器）、等离子显示屏、无机光发射二极管显示器。场发射显示器、薄膜太阳能电池、传感器、半导体装置以及具有可调谐函数CMOS（互补金属氧化物半导体）的场效应晶体管栅极等。
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