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平面钼靶材
钼溅射靶材根据形状可分为平面钼靶材，多弧靶材，旋转靶材。平面钼靶材主要是指具有一定厚度的圆形靶材及矩形靶材。平面靶材通过螺纹等方式与溅射设备相连接，在真空条件下溅射成膜层附着于基片上，再通过各种手段（刻蚀）对薄膜加工，以满足不同需要。
平面钼靶材的制备流程如下所示： 1.将原料装入橡胶模套内，制备成实心的粉质钼板坯； 2.然后采用冷等静压机成型，压力为300-400Mpa，8分钟后固体板坯成型； 3.将成型后的固体板坯放入中频烧结炉中，炉内通入氢气，加热温度为2300℃，加热时间为28个小时，后采用水循环降温10小时，后冷却至室温止，成型坯体备用； 4.将处理后的成型板坯加热到1500℃，加热时间为2小时，取出后经热轧机轧制成形； 5.将处理后的板坯进行机械加工，钼平面靶制作完成。
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