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높은 몰리브덴 대상
높은 몰리브덴 타겟은 고순도 및 고 밀도를 가질 것이 요구된다. 또한, 대상이 섀시 바인딩 섀시는 스퍼터링 타겟 전에 무산소 구리 (알루미늄 또는 기타 물질)에 연결해야 일반적 함께 스퍼터링 몰리브덴되도록 스퍼터링 법 포장재 열적 좋은 상태에서 도전성 섀시 . 스퍼터링 손실없이 최대 전력 요구 사항을 충족 시키도록 한편되도록하여 초음파 검사 결합 후 두는 2 % 미만의 결합 영역 아니다. 밀도 : 몰리브덴 타겟 물성 값은 다음과 같다 : 10.2 g / cm2, 융점 :. 2610 ℃이며, 비점 : 5560 ℃이며, 순도. 99.9 % / 99.9 %, 규격 : 원형 대상 표적 판 회전 타겟.
용도 : 주로 차단재 평판 디스플레이, 박막 태양 전지의 전극 및 배선 재료 및 반도체에 사용.
장점 : 몰리브덴 타겟는 막 스트레스 저항성 및 크롬 위에 절반 우수한 고온 성능, 높은 전도도, 낮은 임피던스 비, 내식성뿐만 아니라, 환경 성능을 가지며, 어떠한 환경 오염의 문제가 있으므로, 없다 선택의 평판 디스플레이 스퍼터링 타겟 재료가된다. 또한, 몰리브덴 타겟 구성 요소가 LCD에 사용하기 위해 상기 LCD 밝기, 콘트라스트, 색상, 수명 및 성능의 다른 측면을 표시 할 수있는 것이 크게 향상된다.
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