G5 Alvo de molibdênio
O objetivo do molibdênio G5 é a mais recente pesquisa e desenvolvimento em larga escala do alvo de molibdênio e as especificações são 1700 × 1431 × 14mm. O alvo de molibdênio é amplamente utilizado em vidro condutor, STN / TN / TFT-LCD, vidro óptico e revestimento de ionização, que pode ser aplicável a todo o revestimento plano e sistema de revestimento rotativo. Além disso, tem muitas vantagens, como alto ponto de fusão, alta condutividade, baixa impedância específica, boa resistência à corrosão e bom desempenho ambiental.
O alvo de pulverização de molibdênio usa fonte de íons para formar íons e no vácuo para acelerar e montar o fluxo de íons de alta velocidade, que bombardeará a superfície sólida. Além disso, o íon e a superfície sólida irão causar a troca de energia cinética, de modo que os elétrons na superfície sólida deixem o alvo para depositar na superfície do substrato e para formar uma película nano ou microfone.
O alvo de molibdênio G5 é usado principalmente na tela de exibição e, com os requisitos de exibição do painel plano, os requisitos de qualidade do alvo de molibdênio também devem aumentar. A densidade do alvo de molibdênio não afeta apenas a taxa de pulverização, mas também afeta as propriedades elétricas e ópticas do filme. Quanto maior a densidade do alvo de molibdênio, melhor o desempenho do filme. Além disso, aumentando a densidade e a força do alvo de molibdênio, ele pode suportar melhor o estresse térmico durante a pulverização. Portanto, aumentar a densidade do alvo de molibdênio é um dos índices importantes para melhorar o desempenho do filme. Além disso, o alvo de pulverização de molibdênio de alta pureza é propício para produzir filme de pulverização de alto desempenho e, em geral, a pureza do alvo de pulverização de molibdênio precisa atingir pelo menos 99,95%.
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