Alvo de pulverização de magnetron de molibdênio
O princípio de operação do alvo de pulverização de magnetron de molibdênio é o elétron sob a ação do campo elétrico E, no processo de voar para a colisão do substrato com os átomos de argônio para ionizar e produzir íons Ar positivos e elétrons novos. Os novos elétrons voam para o substrato e os íons Ar sob a ação do campo elétrico aceleraram a voação para o alvo do cátodo com bombardeamento de alta energia na superfície alvo, de modo que para fazer a pulverização do alvo.
Nas partículas de pulverização catódica, os átomos ou moléculas alvo neutro depositados sobre o substrato para formar uma película fina. Por outro lado, os elétrons secundários gerados estão sujeitos a campos elétricos e magnéticos, resultando em E (campo elétrico) × B (campo magnético) à deriva e sua trajetória é semelhante à cicloóide espiral de magnetron. No caso do campo magnético anular, os elétrons farão um movimento circular com forma aproximadamente ciclosa na superfície alvo e seu trajeto de movimento não é apenas muito longo, mas também delimitado na região do plasma perto da superfície alvo. Além disso, nesta região irá ionizar uma grande quantidade de Ar para bombardear o alvo, conseguindo assim alta taxa de deposição. Com o aumento do número de colisões, a energia dos elétrons secundários está esgotada e, gradualmente, afastando-se da superfície alvo e, finalmente, depositada no substrato sob a ação do campo elétrico E.
O alvo de pulverização de magnetron de molibdênio tem alta resistência, alta temperatura, resistência ao desgaste, resistência à corrosão e outros excelentes desempenhos. A pureza é de 99,95% e a densidade é de 10,2 g / cm 3 . O ponto de fusão é 2610 ℃ e o ponto de ebulição é de 5560 ℃. De acordo com a forma, os tipos de alvo de molibdênio incluem alvo de pulverização de magnetron retangular, alvo de pulverização de magnetron circular e alvo de pulverização de magnetron de tubo cilíndrico. Os alvos de pulverização catódica são usados principalmente na indústria de eletrônicos e de informação, como circuitos integrados, armazenamento de informações, exibição de cristal líquido, memória laser, dispositivos de controle eletrônico. Além disso, também pode ser aplicado ao campo de revestimento de vidro e também pode ser usado em materiais resistentes ao desgaste, corrosão a alta temperatura, produtos de decoração de alta qualidade e outras indústrias.
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