三氧化鉬

三氧化鉬三氧化鉬是由金屬原子Mo在中心、氧原子在角邊的[MoO6]八面體為基本結構單元,共角、形成鏈連接,每兩個相似的鏈共邊連接形成層狀的MoO3化學計量結構,層與層之間靠范德華力作用而交錯堆積排列。

三氧化鉬具有層狀結構和框架很重要,其中存在著廣延的通道,可用作離子的流通管道和嵌入位置。開放的三氧化鉬晶體結構和它的水化物都是H+,Li+及其他離子的良好離子注入主體。這一優良特性使其在資訊顯示與儲存、催化劑、感測器等領域具有廣闊應用前景。三氧化鉬具有電致變色、抑煙-阻燃、催化降解以及氣敏特性等。筆者綜述了三氧化鉬的性能及其應用。

三氧化鉬品質:可滿足"GB3649 - 87"標準的品質要求。三氧化鉬形狀:粉末 - 尺寸16毫米最大。

三氧化鉬牌號及化學成分

牌號

化學成分

Mo
Min%

S

Cu

P

C

Sn

Sb

Max%

YMo 55.0-A

55.0

0.10

0.15

0.25

0.04

0.10

0.05

0.04

YMo 52.0-A

52.0

0.10

0.15

0.25

0.05

0.15

0.07

0.06

YMo 55.0-B

55.0

0.10

0.15

0.40

0.04

0.10

0.05

0.04

YMo 52.0-B

52.0

0.15

0.25

0.50

0.05

0.15

0.07

0.06

YMo 50.0

50.0

0.15

0.25

0.50

0.05

0.15

0.07

0.06

YMo 48.0

48.0

0.25

0.30

0.80

0.07

0.15

0.07

0.06

三氧化鉬具有廣泛的工業用途。其主要用途是作為鋼鐵和其他抗腐蝕合金的添加劑。三氧化鉬也用於鉬產品生產,工業催化劑,顏料,一種作物養分,是玻璃,陶瓷和搪瓷,為聚酯,聚氯乙烯樹脂阻燃劑的組成部分,作為一種化學試劑。職業暴露的預期。三氧化鉬通過動物實驗資料螢幕上,進行了初步的毒理學評價,並正在帶來了協商,致癌物質鑒定委員會。

三氧化鉬製備方法

製備方法  優點 缺點
蒸鍍法  設備簡單,易於操作  薄膜與基底結合不牢固,容易剝落;
設備昂貴,技術複雜,不易於大面積生產均勻的氧化物薄膜
電化學沉積法  1)易於大面積薄膜的製備;
2)通過控制電位(或者電流)及溶液組成等可以控制薄膜的組成;
3)通過控制沉積時的電量可以控制薄膜的厚度及表面形貌;
4)不需要高真空、高溫,不需要使用危險氣體,方法簡便安全
薄膜通常比較疏鬆,內部含有較多水分;
基體表面上晶核的生長及長大速度不能控制,晶體結構不規則,一般為多晶結構
濺射法 1)襯底溫度較低;
2)製備的薄膜結晶性好,可獲得外延單晶膜;
3)薄膜的性能好
濺射的生長速率慢,薄膜成分與靶材有一定偏差
溶膠-凝膠法 1)能夠精確控制薄膜的組分和摻雜;
2)易於製備大面積薄膜,適於大批量生產,設備簡單,成本低;
3)與集成工藝相容,適於製作鐵電集成器件

薄膜的緻密性較差,易出現龜裂現象;
工藝參數較難掌握

溶膠-凝膠法製備MoO3薄膜

首先,以CH3COCH2COCH3, MoO3,C6H5CH3和HOCH2CH2OCH3為原料合成三氧化鉬溶膠和凝膠。
凝膠的熱重和差熱分析顯示三氧化鉬的晶化出現在508℃附近的140℃範圍內。

然後,利用旋轉塗布法在矽(111)基片上通過450℃退火處理製備了三氧化鉬薄膜。通過XRD和FT-IR表徵表明薄膜為α-MoO3相。通過SEM表徵表明,薄膜中晶粒分佈均勻緻密,在基片表面無擇優取向,晶粒尺度範圍在0. 5~1. 0μm。

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