鉬棒、鉬板、鉬靶>>
高純鉬濺射靶材
高純鉬濺射靶材具有更好的濺射薄膜性能，純度越高，其性能越好。高純鉬濺射靶材主要應用於半導體、顯示器等電子領域。該領域對鉬靶材的純度要求較高，一般要達到99.95%。但隨著液晶顯示器行業玻璃基板尺寸的不斷增大，要求配線長度延長、線寬變細，因而要不斷提高濺射靶材的濺射薄膜的性能，而提高靶材的純度是對薄膜均勻性以及佈線品質的保證，因此，根據濺射玻璃基板的尺寸以及使用環境，鉬濺射靶材的純度要在99.99%~99.999%，甚至更高達到99.999%。
製備高純度的鉬濺射靶材首先要採用高純度的鉬粉，其次是要嚴格控制製備過程，防止雜質進入。廈門中鎢線上科技有限公司採用高純原料鉬粉和良好的製備工藝，能夠提供高品質、高純度的鉬靶材，歡迎詳情諮詢。
如果您對我司的鉬產品感興趣，請隨時通過電子郵件：sales@chinatungsten.com sales@xiamentungsten.com 或電話：86 592 512 9696與我們聯繫。