平面鉬靶材

平面靶材圖片

鉬濺射靶材根據形狀可分為平面鉬靶材,多弧靶材,旋轉靶材。平面鉬靶材主要是指具有一定厚度的圓形靶材及矩形靶材。平面靶材通過螺紋等方式與濺射設備相連接,在真空條件下濺射成膜層附著於基片上,再通過各種手段(刻蝕)對薄膜加工,以滿足不同需要。

平面鉬靶材的製備流程如下所示:
1.將原料裝入橡膠模套內,製備成實心的粉質鉬板坯;
2.然後採用冷等靜壓機成型,壓力為300-400Mpa,8分鐘後固體板坯成型;
3.將成型後的固體板坯放入中頻燒結爐中,爐內通入氫氣,加熱溫度為2300℃,加熱時間為28個小時,後採用水迴圈降溫10小時,後冷卻至室溫止,成型坯體備用;
4.將處理後的成型板坯加熱到1500℃,加熱時間為2小時,取出後經熱軋機軋製成形;
5.將處理後的板坯進行機械加工,鉬平面靶製作完成。

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