高純度モリブデン粉末
高純度モリブデン粉末、高電圧大電流の半導体デバイス、オーディオビジュアル機器、カメラ部品や材料の高密度集積回路のゲート電極用モリブデン線。高純度モリブデン粉末製剤には、最初に高純度の酸化モリブデンまたは高純度のハロゲン化物を取得する必要があります。高純度三酸化モリブデンのプロセスを取得し、次のとおりです。
プラズマ物理蒸着
通常の三酸化モリブデンの空気プラズマ処理は、三酸化モリブデン冷気の多数の導入外部特性は、それが空気プラズマ炎中に迅速に蒸発するほとんどの不純物よりも低い沸点の使用、及びプラズマ炎は、ガス状の三酸化モリブデンを冷やし超高純度三酸化モリブデン粉末を得ました。
イオン交換
原料粉末は、30％H 2 O 2の濃度で添加した容器の1 L / hの速度で、次いで、水と混合し、テフロン（登録商標）容器中に溶解しました。得られた溶液をH型カチオン交換体を通過させ、容器を95°でCに加熱し、吸入圧力が沈殿物を形成するために、約25 Paで5時間維持、即ち、高純度の三酸化モリブデン、濃縮しました。
化学的精製法
繰り返し再結晶することにより、高純度を得るために、焼成後、高純度モリブデン酸アンモニウム、三酸化モリブデンとを取得します。
高純度の三酸化モリブデンを取得した後、従来の水素化及び水素プラズマ還元法を使用して、高純度のモリブデン粉末を得ることができます。これらのタイプのアプリケーションの調製が報告されているが、具体的なアイデアや技術的な詳細は明らかにされていません。
高純度のハロゲン化技術の原理を得るためにある：工業用三酸化モリブデンまたは（などの焼結ストリップチャック、モリブデン材料スクラップ、廃モリブデン線、など）モリブデン金属スクラップハロゲン化物を得た（典型的には、五塩化モリブデン）、そしてその後、モリブデンハロゲン化物の分別処理の約550℃の高温条件下で、内部の揮発不純物が与えるヒドロクロロチアジド炎や水素プラズマ炎の減少により、最終的に深精製モリブデンハロゲン化物（5 Nまで伝えられるところ純度）、およびを与えるために高純度モリブデン粉末。
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