銅ターゲットとマンモグラフィ
銅ターゲットとマンモグラフィが広くなどの集積回路、情報ストレージ、LCDディスプレイ、レーザのメモリ、電子制御装置などの電子情報産業で使用されているコーティング産業に使用することができ、それはまた、ガラスコーティングの分野に適用することができます。
マンモグラフィーは、また、その高い融点、高温物理的強度、高弾性率、優れた耐熱性、選択的な腐食に優れた性能を、モリブデンスパッタリングターゲットと呼ばれ、それは、広く導電性ガラス、STNで使用され/ TN/ TFT-LCD、光学ガラス、イオンプレーティング法等、全てのフラットコーティング、回転コーティングシステムに適用可能です。
銅ターゲットは、高い銅材料の特定のサイズおよび形状を有し、加工品の一連の高い銅材料、スパッタリングターゲットに真空コーティング産業です。高い銅に特に超高純度銅は多くの優れた特徴を有し、それは、広く電子、通信、超伝導、および航空宇宙の最先端の分野で使用されてきました。それ等DCダイオードスパッタリング、三極スパッタリング4スパッタリング、RFスパッタリングスパッタリング、対向ターゲット、イオンビームスパッタ、マグネトロンスパッタリングに適している、反射膜、導電膜、半導体めっきすることができますフィルム、容量膜、他のターゲットへの相対的な装飾フィルム、保護フィルム、集積回路、ディスプレイ等、低い銅価格のターゲットなので、銅は、フィルムの機能の前提の下で、ターゲット材料のための選択の目標を達成することができます。
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