パーティーマンモグラフィ
マンモグラフィマンモグラフィは1における副生成物です。
次のように物理的性質：密度：10.2グラム/ ccで、融点：2610 deg]のC、沸点：5560 deg]とC、純度：≥99.95％、形状：正方形。
パフォーマンス：パーティーマンモグラフィーは、高融点、インピーダンスよりも低く、高い電気伝導性、良好な耐腐食性及び良好な環境性能を有しています。
用途：エレクトロニクス産業において、モリブデンスパッタリングターゲットは、主に、バリア材料、フラットパネルディスプレイ、薄膜太陽電池の電極と配線材と半導体のために使用されます。フラットパネルディスプレイ業界に加えて、新たなエネルギー産業の発展に伴い、薄膜太陽電池セルで使用されるモリブデンスパッタリングターゲットは、徐々に拡大しています。
性能要件：スパッタリングレートパーティマンモグラフィを増加し、堆積膜の品質を確保するために、その性能は、以下の要件です。
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純度：高純度モリブデンターゲット、より良いスパッタ膜の性能。配線の持続長さを必要とする一般的なマンモグラフィ99.95％に達するのに必要な純度が、LED産業の継続的な改善と、ガラス基板のサイズは、行は、膜の均一性の品質や配線ので、マンモグラフィを確保するために、細幅純度の要求が増加しています。マンモグラフィ用したがって、ガラス基板、99.999％、またはそれ以上の純度99.99％。
2.密度の要件：スパッタリング中に、小さなマンモグラフィーの密度時に衝撃を受け、マンモグラフィ内部空隙が大型のターゲット粒子または粒子飛散、または撮影で、その結果、ガスの突然のリリースに存在するのでこれにより、膜の品質を低下させる、飛行粒子による電子衝撃により第2の膜の後。98％以上の相対密度。
3.サイズと粒子サイズ分布：通常目標多結晶構造およびサイズをスパッタリングモリブデンミリメートルミクロンとすることができます。すぐに粗大結晶粒よりも微細な粒度のマンモグラフィ率の建設。ターゲットの結晶粒径との間の小さな差、より均一な堆積膜厚分布。
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